Oberflächenanalyse in nm-Auflösung: Optiquiver
Der Optiquiver ist ein universelles optisches Messinstrument und arbeitet mit praktisch allen Arten optischer Strahlung. Die Quellen können schmalbandig und hochkoherent sein, wie z.B. Laser aber auch breitbandig wie LEDs oder Weißlichtquellen. Weiterhin darf die Strahlung divergent, kollimiert oder auch fokussiert sein. Es steht auch eine interne Breitbandlichtquelle zur Verfügung. Das System ermittelt die absolute Phasenlage ortsaufgelöst, was einen hohen Dynamikbereich ermöglicht und hat eine Messrate von ca. 2 Hz.
Der Optiquiver kann somit Oberflächen und Optiken charakterisieren, Strahlprofile, AOIs und Divergenzwinkel messen, wandernde Fokuspunkte verfolgen etc. Dafür steht in der Grundversion eine Apertur von derzeit 48 mm zur Verfügung.
Applikationen
- Monitoring und Ansteuerung von adaptiven Optiken (Spiegel und Linsen)
- Vermessung von Formtreue (PV) und Oberflächenrauigkeit (L/4) von planaren und nicht-planaren Spiegeln
- Vermessung von Form und Abbildungsqualität optischer Linsen
- Vermessung des Rundlaufs von Lagern (Wobble-Messung)
- Automatisierte Strahlausrichtung der X- und Y-Achse
- Monitoring und Justage des optischen Pfads in optischen Versuchsaufbauten
- Hochaufgelöste optische Wellenfrontmessung
- Messung der Homogenität der Bestrahlung auf einer Fläche
- Messung der Verformung von Halbleiterwavern
- Messung der Strahlform und Strahlqualität von Lasern, LEDs und Weißlichtquellen
- Qualifizierung von Brillengläsern und Kontaktlinsen
Features
- Quartus Engineering liefert als erfahrenes Haus für kundenspezifische Applikationssoftware ein herausragendes Benutzerinterface. (kompatibel zu Windows und MacOS)
- 2D- und 3D-Wellenfrontdiagramme mit hohem Dynamikbereich, Zernike-Zerlegung, Restfehler, Winkelneigung und Strahlprofil
- Der abnehmbare Referenzspiegel in der kinematischen Linsenkappe ermöglicht jederzeit einen Selbsttest (Audit-Modus) zur Funktionskontrolle
- Große Eingangsapertur zur Messung von Strahlen und reflektierenden Oberflächen, ohne zusätzlichen Beamcondenser/expander
- Interaktive Plot-Tools mit Live-Punktverfolgung und vom Benutzer wählbaren Farbskalen
- Steuerfunktionen für die interne Lichtquelle
- Eingabefunktion für alle Operationsparameter (Verstärkung, Wellenlänge, etc.)
- Langzeitfunktion für praktisch alle Funktionen
- Aufzeichnungsfunktion von Live-Messungen für die spätere Offline-Analyse
- Temperaturkompensation für den mobilen Einsatz
- Kompakte Größe und Aufbewahrung im handgepäckskonformen Reisekoffer ermöglichen Ferninspektion und einfachen Transport
- APIs für die OEM-Integration (gRPC über Python, C++, Matlab)
Standard-Spezifikationen und Konfigurationen
Model | ||||
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QOQ-025-0550-075 | QOQ-048-0550-075 | QOQ-100-0550-075 | Units | |
Optical Specs | ||||
Aperture diameter | 25 | 48 | 100 | mm |
Integrated light source | LED, RG1 (Low risk group) per IEC-62471:2006 | |||
Internal beam wavelength | 550 | nm | ||
Mask pitch | 350 | 500 | 500 | µm |
Mask aperture diameter | 200 | 250 | 250 | µm |
Mask EFL | 75 | 75 | 75 | mm |
Active mask apertures | 6568 | 7668 | 7668 | |
Minimum beam diameter | 3 | 3 | 5 | mm |
Sensor Specs | ||||
Detector range | 400 - 750 | 400 - 750 | 400 - 750 | nm |
Resolution | 4024 x 3036 | 5472 x 3648 | 5472 x 3648 | pix |
Pixel pitch | 1.85 | 2.4 | 2.4 | µm |
Bit depth | 8 Bit | 8 Bit | 8 Bit | |
Measurement Specs | ||||
Max tilt | > 4 | > 6 | > 8 | deg |
Tilt accuracy | < 0.5 | < 1 | < 1 | arcsec |
Tilt resolution | < 0.25 | < 0.5 | < 0.5 | arcsec |
Wavefront accuracy (RMS) | 25 | 30 | 50 | nm |
Wavefront sensitivity (RMS) | 10 | 15 | 25 | nm |
Wavefront dynamic range | > 1 | > 1.5 | > 2 | mm |
General Specs | ||||
USB interface | USB 3.0 type A | |||
Frame rate | 4 - 20 | 2 - 10 | 2 - 10 | Hz |
Power supply | 24 V, 1.5 A max | |||
Overvoltage category | OVII | |||
Pollution degree | PD1 | |||
Operating temperature | 10 to 30° | C | ||
Operating humidity | 10 to 85%, None condensing | RH | ||
Storage temperature | -10 to 50° | C |
End-user industry
Measurement capability | General optical lab use | Optical component manufacturing | Optical instrumentation | Aerospace | Semiconductor wafer | Medical device | Astronomy |
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Mirror / lens surface figure | |||||||
Optical wavefront error | |||||||
Beam pointing angle | |||||||
Bearing runout / wobble | |||||||
Surface flatness / figure | |||||||
Optical coating absorption | |||||||
Adaptive optics control | |||||||
Automated optical alignment | |||||||
Transmitted wavefront error | |||||||
Boresight error | |||||||
Corrective lens testing | |||||||
Focal plane warpage / tilt | |||||||
Transient optical logging | |||||||
Diffractive optic characterization |